스퍼터링 시스템이란 무엇입니까?

sputtering은 얇은 코팅을 형성하기 위해 기판 표면에 고체 표적 물질이 배출되는 박막 증착 공정이다.스퍼터링 시스템은 스퍼터링 프로세스가 발생하는 기계입니다.여기에는 전체 프로세스가 포함되어 있으며 사용자가 온도, 전력, 압력, 표적 및 기판 재료를 조정할 수 있습니다.

스퍼터링은 화학적 반응이 아닌 물리적 수단에 의해 형성되기 때문에 물리적 증기 증착이라고합니다.스퍼터링 시스템에서, 진공 챔버에는 대상 재료, 전원 및 가스 혈장이 포함되어 있습니다.일반적으로 아르곤과 같은 고귀한 가스 인 가스는 공정을 시작하기 위해 매우 낮은 압력으로 챔버로 가져옵니다.가스.이것은 가스가 양이온으로 알려진 양의 이온을 이온화하고 형성합니다.이 양이온은 차례로 표적 재료를 폭격하여 챔버를 통과하여 기질에 퇴적하는 작은 조각을 무너 뜨립니다.가스 혈장의 이온화 중에 여분의 전자가 제거되기 때문에 프로세스는 스퍼터링 시스템 챔버에서 쉽게 영속 될 수 있습니다.

스퍼터링 시스템은 구조, 전원, 크기 및 가격 측면에서 다양합니다.표적 재료 및 기판의 방향은 각 기계에 특이 적이다.일부 시스템은 기판의 표면에 평행 한 표적 재료를 직면하는 반면, 다른 시스템은 다른 증착 패턴을 형성하기 위해 표면을 기울일 것입니다.예를 들어, 공 초점 스퍼터링은 초점을 향한 원으로 여러 대상 재료의 여러 단위를 오리엔테이션합니다.이 유형의 시스템의 기판은보다 균일 한 증착을 위해 회전 할 수 있습니다.

전원은 다르기 때문에 특정 시스템은 직류 (DC) 전력을 사용하는 반면 다른 시스템은 RF (Radio Frequency) 전력을 사용하기 때문입니다.마그네트론 스퍼터링으로 알려진 한 유형의 스퍼터링 시스템에는 유리 전자를 안정화시키고 박막 증착을 균일하게하는 자석이 포함되어 있습니다.이 방법들은 스퍼터링 시스템에 온도와 증착 속도에 관한 다른 품질을 제공합니다.

스퍼터링 시스템은 데스크탑 시스템에서 냉장고보다 큰 큰 기계에 이르기까지 다양합니다.내부 챔버의 크기도 다양하지만 일반적으로 기계 자체보다 훨씬 작습니다.대부분의 챔버는 직경이 1 야드 (약 1 미터)보다 작습니다.스퍼터링 시스템의 비용은 사용 된 $ 20,000 미만의 USD (USD)에서 새로운 또는 맞춤형 설계 시스템의 경우 $ 650,000 USD 이상까지 다양합니다.